SCIL-Nanoimprint Solutions maakt massaproductie van nanostructuren mogelijk
SCIL Nanoimprint Solutions (of: SCIL-Nano) biedt oplossingen voor het patronen van nanostructuren op grote wafers door gebruik te maken van gepatenteerde lithografietechnologie.
Remco van Brakel (cco), Rob Voorkamp (ceo) en Marc Verschuuren (cto) werken in 2015 alle drie bij Philips Research aan de ontwikkeling van SCIL (Substrate Conformal Imprint Lithography). Ze besluiten de stap te wagen en – om met de hulp van Philips – een businesscase rondom de technologie op te bouwen. Sinds eind dit jaar staan ze officieel op eigen benen, nadat ze een investering van €10 miljoen binnenhaalden. IO sprak met ceo Rob Voorkamp.
Wat doet SCIL-Nano?
“SCIL of Substrate Conformal Imprint Lithography is een kosteneffectief, robuust proces met een hoge opbrengst dat patronen met nanometerresolutie mogelijk maakt op een grote verscheidenheid aan materialen. SCIL levert bewezen afdrukken van hoge kwaliteit op waferoppervlakken tot 300 mm.
Onze klanten gebruiken deze technologie om hoge-resolutie, kosteneffectieve, schaalbare, veelzijdige en betrouwbare patronen te maken voor verschillende hightech componenten. Deze componenten kunnen lenzen en andere fotonica-componenten zijn die worden gebruikt in smart glasses, mobiele telefoons, sensoren en halfgeleiders. Met SCIL kunnen onze klanten uiteindelijk innovatie stimuleren en een concurrentievoordeel behouden in hun markten.”
Wat is het voordeel van SCIL-technologie?
“Met optische lithografie heb je problemen met focus als een oppervlakte niet helemaal vlak is. SCIL-technologie kan wél nanostructuren aanbrengen op oppervlakken die niet helemaal vlak zijn. Denk aan lasers of LEDs en bijna alle toepassingen waar je een structuur op glas wilt aanbrengen, maar ook halfgeleiders waar al vele lagen zijn aangebracht.
Daarnaast kunnen we in één keer complexe (3D-)structuren aanbrengen met verschillende materialen, aan twee kanten van een glazen wafer structuur aanbrengen en onze machines en processen zijn vele malen goedkoper dan bij DUV-tools en verbruiken tot 80% minder energie.
Maar, er zijn ook nadelen. Wij zijn goed in het maken van hele nauwkeurige (10 nm resolutie) structuren, maar als we een tweede laag moeten aanbrengen dan kunnen we die uitlijnen op ongeveer 0,5 micrometer ten opzichte van de eerste laag. Dit is voor de eerste lagen (front-end) van halfgeleiders niet goed genoeg. We concurreren dus niet met EUV. We richten ons dus vooral op photonische toepassingen en back-end semicon.”
Wat is het ultieme doel?
“We leveren machines, de verbruiksmaterialen en process ondersteuning om onze klanten in staat te stellen om hun producten kosteneffectief en schaalbaar te produceren. Ons doel is om dé partner-of choice te zijn voor elk bedrijf dat zijn producten wil verbeteren door middel van het toepassen van nanostructuren. We willen de klant ondersteunen van de ontwerpfase, tot sample productie tot aan volume productie.”
Wat was de grootste uitdaging?
“Het definiëren van het juiste businessmodel. Voor ons was dat het leveren van productiemachines en daarnaast terugkerende omzet uit de verbruiksmaterialen die producten nodig hebben om hun productie te runnen.”
En het grootste succes?
“We hebben drie grote klanten die onze machines gebruiken voor volume productie van lasers, lenzen en augmented reality brillenglazen. De laatste klant heeft een complete productielijn van niets opgebouwd rondom onze technologie.”
Gebruik van het Brainport ecosysteem
“Omdat we uit Philips voortkomen, was het logisch om onze start-up in de Brainportregio te ontwikkelen. We werken veel samen met allerlei bedrijven in Brainport. VDL-ETG maakt bijvoorbeeld onze imprint machines. Wat er mijns inziens nog beter zou kunnen, is een goede, betaalbare en flexibele infrastructuur zoals cleanrooms en laboratoria.”
De Gerard & Anton Awards zijn mede mogelijk gemaakt door EY, Rabobank, V.O. Patents & Trademarks, TWICE, Kadans Science Partner, Braventure, Lumo Labs, Gemeente Eindhoven, High Tech Campus, Philips, Goevaers & Znn. B.V. en DeepTechXL.
