Imec heeft meest geavanceerde chipmachine in handen
Vandaag maakt Imec, een wereldwijd toonaangevend onderzoekscentrum voor geavanceerde chiptechnologie, de komst bekend van de ASML EXE:5200 High NA EUV-lithografiesysteem. Het is de meest geavanceerde chipmachine die er nu beschikbaar is. Met deze belangrijke stap krijgen partners van Imec vroeg toegang tot de volgende generatie chiptechnologieën.
Chips kleiner dan 2 nanometer
Het High NA EUV-systeem werkt samen met geavanceerde meet- en productietools. Zo kan Imec samen met zijn partners chips kleiner dan 2 nanometer ontwikkelen, met betere prestaties voor kunstmatige intelligentie en krachtige computers.
Opschalen naar industrieniveau
Luc Van den hove, CEO van Imec: “Met de installatie van het EXE:5200 High NA EUV-lithografiesysteem in onze 300mm cleanroom in Leuven (België), willen we deze High NA EUV-patterningtechnologieën naar een voor de industrie relevant niveau brengen en de volgende generatie High NA EUV-patterningtoepassingen ontwikkelen. De ongeëvenaarde resolutie, verbeterde overlay-prestaties, hoge doorvoer en een nieuwe waferstocker die de processtabiliteit en doorvoer verbetert, hebben onze partners een doorslaggevend voordeel bij het versnellen van de ontwikkeling van chips kleiner dan 2 nanometer.”
Europa sterker positioneren
Hij voegt toe: “Als integraal onderdeel van de door de EU gefinancierde NanoIC-pilotlijn, zal het systeem een cruciale rol spelen bij het versterken van Europa’s positie als leider in geavanceerd halfgeleideronderzoek in de komende decennia.”
ASML en Imec
Christophe Fouquet, CEO van ASML: “De installatie van de EXE:5200 bij Imec markeert een belangrijke stap in het ångström-tijdperk. Samen versnellen we de uitbreidbaarheid van High NA EUV voor de volgende generaties geavanceerd geheugen en rekenkracht.”
Imec verwacht dat het EXE:5200 High NA EUV-lithografiesysteem volledig operationeel is tegen het vierde kwartaal van 2026.